图1 常用的一级RO+二级EDI+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率18~18.2MΩ·cm的超纯水系统
图2常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度高,有机物含量高,电导率(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统
图5 常用的一级RO+二级EDI电子+MB 电子I级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率18~18.2MΩ·cm的超纯水系统
图 6 常用的一级RO+二级EDI电子Ⅱ级超纯水系统工艺配置图
适合于源水硬度低,有机物含量低,电导率高(小于1000μs/cm),要求产水电阻率15~18MΩ·cm的超纯水系统图 7是常用的一级EDI全系统组成图。
图 7 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI+MB电子Ⅰ级超纯水系统组成图
适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率<1000μs/cm,即TDS < 500ppm时,要求产水电阻率18~18.2MΩ·cm的纯水系统
图 8 常用的产水水质稳定的二级RO+一级EDI电子Ⅱ级超纯水系统组成图
适合于源水硬度低,有机物含量高,电导率<1000μs/cm,即TDS < 500ppm时,要求产水电阻率15~18.0MΩ·cm的的纯水系统