随着28纳米工艺技术的成熟，28纳米工艺产品市场需求量呈现爆发式增长态势，从2012年的91.3万片到2014年的294.5万片，年复合增长率高达79.6%。而且随着“中国制造2025”战略的实施，许多高新科技领域对集成电路的需求十分巨大，同时对大规模集成电路的设计生产、封装环节要求越来越高。
大规模集成电路的制造利用各种各样的设备和工艺技术。各专业技术人员虽然对自己分工的工艺技术精益求精，但对其它工艺生产情况有时不一定了解，甚至往往不注意个人负责的设备和工艺生产给洁净室（cleanroom）内的环境带来的不良影响。
对集成电路产品造成影响的洁净室污染因素：
（1）电磁噪声
通过大电流的氧化炉等设备的电缆和反复控制通断的电磁开关，高频振荡等产生的电磁噪声，影响电子束扫描设备的扫描精度。其影响程度与发生源的距离成反比。
（2）振动
设备内的真空泵电机工作时会把振动经地板传递到微细加工设备和显微镜等精密设备仪器上，影响它们的工作精度。应在振源和怕受振动的设备下安装空气弹簧减震器，以达到衰减振动的目的。
（3）生锈
酸用通风罩局部排风量不足时，酸雾气扩散于室内，腐蚀室内设备的金属部分，就是不锈钢裸露在含氯气的空气中，也会受腐蚀生锈。处理酸的最有效的方法是采用密闭通风罩，保证足够的局部排风量。
除上述人们熟知的原因之外，还有器材和设备的搬出和大修施工时的污染问题。这些污染不只是由于人的移动造成的，设备移动也会扬起已落在地板表面和器材上的尘埃。特别是更换设备时养护地板，搬进小工具或很多搬运工进出洁净室，这些情况会导致室内的悬浮尘埃量比平时大一百倍以上。
对洁净室局部改造的施工中，通常人在地板下铺设管道或者坐在地板上进行作业。这种施工有时切割管道，于是聚氯乙烯管和不锈钢等切屑粉末飞扬出来。所以大修时尽管周围挂上档布以养护，但由于施工人员进进出出，受污染的不仅仅是局部范围，而且全室都受严重污染。
在洁净室内，只用有人在操作，有设备在运行，就会发尘。这些尘埃并非随着循环气流为高效过滤器所捕集，一部分尘埃总要积落在地板、墙壁、设备表面上。应清除这些积尘，以保持洁净室的清洁。